美国应用材料公司（Applied Materials,Inc.）是世界一流的半导体制造设备厂商、而其麾下的AKT显示事业部（AKT Display Group）则是平板显示器（FPD）制造设备的龙头供应商。迄今为止、在全世界范围已有超过1100台量产设备交付使用的业绩。其中化学气相沉积（CVD）设备与用于彩色滤光片的溅射设备几乎在所有主要薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）的工厂中予以采用。如今、AKT显示事业部将积极配合中国FPD产业发展、进一步强化公司在本地的服务体系。

AKT显示事业部始建于1991年、原是美国应用材料公司麾下负责开发与生产TFT-LCD制造设备的子公司。此后于1993年、同日本大型工程机械生产商小松制作所合资成立了应用小松科技公司（Applied Komatsu Technology、简称AKT）、现在成为美国应用材料公司专供FPD相关设备的事业部门。公司在成立伊始、以领先的PECVD设备在国际市场奠定了龙头供应商的地位。

现在、除了PECVD设备之外、该公司还提供阵列检测设备、TFT阵列物理气相溅射设备、彩色滤光片以及触摸屏镀膜设备。

为中国显示行业客户提供完善的服务体系

AKT显示事业部积极致力于开拓中国市场。2004年将第一台五代线的PECVD设备“AKT-15K PECVD”交付中国。AKT目前已经成为中国区FPD制造业核心设备的领先供应商,提供的主要设备包括：PECVD、彩色滤光片镀膜系统(Color Filter Sputter)、电子束阵列检测设备、以及TFT阵列PVD溅镀设备。在2011年、中国地区的设备安装量超过了一百台。

自从第一台设备安装以来、AKT显示事业部就一直专注于客户服务体系的完善。应用材料中国公司（Applied Materials China）自1984年成为首家外资进驻中国的半导体设备供应商、已经建立了全面的客户服务体制和服务网络。为了更好地服务显示领域的客户、AKT中国显示事业部依托应用材料中国公司已有的客服资源、迅速建立起完善的对应显示产业客户的服务体制、在各个主要客户地区、北京、上海、昆山、成都、武汉、合肥及深圳等地建立起当地快速服务对应的工作团队。此外、藉由分布在日本、韩国、台湾、中国、北美以及其他地区的服务中心、帮助显示客户管理其制造设备的使用周期、让工厂效能最优化。“应用材料全球客户支持服务”部门除了提供专业技术支持、最新产品信息以及迅速零件配送服务以外、还提供定制化的到厂服务、从培训与维修到预防性保养、功能强化以及先进的工厂自动化解决方案。

现在、中国在国际显示市场中的地位举足轻重。中国市场对AKT显示事业部的业绩增长也变得日益重要。满足中国显示产业迅速发展壮大的需求、AKT将一如既往并继续努力、建立更专业的客户服务体系及设施、不断提高客户满意度。

专注于高端移动显示的制造设备

图1 ●第5.5代LTPS TFT PECVD设备 “AKT-20K PX PECVD”　（点击放大）

图2 ●第10代电子束阵列检测设备“AKT-90K EBT”　（点击放大）

图3 ●第8.5代TFT 阵列溅射设备“ AKT-PiVot 55KV PVD” 　（点击放大）

图4 ●彩色滤光片/ 触摸屏溅射设备“AKT-NEW ARISTO” 　（点击放大）

最近、AKT显示事业部积极拓展其先进制造设备产品线、特别针对智能手机与平板电脑所依赖的有源矩阵有机发光二极管面板（AMOLED）和高端TFT LCD液晶显示面板的制造。2011年3月推出的“AKT-20K PXPECVD”PECVD设备就是其成果之一。该设备可加工1300mm x 1500mm大小的玻璃基板。AKT显示事业部十多年来在LTPS成膜技术的研发奠定了其在新兴领域的领先地位。迄今为止、用于小型玻璃基板的低温多晶硅成膜设备、已经在全世界范围安装约100台以上。

此外、针对智能手机与平板电脑中必不可缺的触摸屏的制造,2011年4月、显示事业部推出了“AKT Aristo Twin”镀膜设备。该设备在单一的系统平台上、配置了两边各自独立的镀膜工艺通道、可以同时沉积两种不同的薄膜。这种别具一格的特点既节约了无尘室内设备的安装面积、又避免了购买多台设备的需求。“AKT Aristo Twin”机台是以成熟的“AKT New Aristo PVD”平台为基础、Aristo机台在全世界已有大于175台装机量、 被称为LCD 彩色滤光片以及触摸屏行业的标准镀膜设备。 最新的“AKT Aristo Twin”镀膜设备支持多种玻璃基板尺寸、最大可以对应5.7平方米（2200mm x 2500mm）的基板。

提供多种高品质的制造设备

PECVD设备是AKT显示事业部的主要产品、 现在在日本、韩国、台湾、中国的多家面板制造厂已超过750台的安装业绩（图1）。AKT PECVD系列产品、以其优异的薄膜均匀性和设备稳定性获得高度评价。AKT PECVD设备平台涵盖了从第2代至第10代的所有玻璃基板尺寸、并配备了位于腔体外部的等离子源清洗装置。适用于各种膜层的沉积：掺杂（doped）与非掺杂的a-Si、SiOx、SiON、SiNx以及a-Si或LTPS TFT所需要的多层薄膜等。今后、在PECVD设备方面、AKT显示事业部将集中精力研制可以对应有机EL以及高精细LCD的LTPS技术、 保持行业领先地位。

关于利用电子束检查像素的阵列检测设备、AKT显示事业部供应涵盖了1100mm x 1250mm~2880mm x 3130mm八种玻璃基板尺寸的设备平台（图2）。

“AKT-PiVot™PVD”TFT阵列溅射设备可用于在大型基板上垂直溅镀均匀性极高的金属以及像素ITO薄膜的生成（图3）。AKT独特的圆柱形旋转靶技术可以将靶材的使用效率大幅提高、是原有平板式溅射靶的2倍利用率、而溅射靶的使用寿命则长达3倍以上、有助于大幅削减制造成本。圆柱形旋转靶的独特设计、可以使薄膜反向沉积及杂质颗粒沾污的发生率降低至最小限度。

“AKT-New Aristo™”溅射设备因拥有大量采用实例、可以称为FPD业界成膜生产的标准设备（图4）。该设备拥有业界最高的生产能力、也即最快的机械生产节拍。New Aristo系列溅射设备可以应对第8代及以下的玻璃基板、适用于彩色滤光片以及触摸屏生产所需的各种薄膜工艺。伴随着投射电容式触摸屏市场的飞速发展、AKT显示事业部积极应对、力图更好地服务于这一新兴市场。

应用材料中国有限公司 AKT显示事业部
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